通過實驗闡述PSM-5五點試塊使用和維護

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發(fā)布日期：2021-07-30 10:13
PSM-5試片堵塞及試片維護
上周，小翼同學分享了關(guān)于《PSM-5五點試塊在熒光滲透中的使用和維護》，本周小翼同學從網(wǎng)絡(luò)上查找了一份不錯的資料整理完成在此和各位有興趣小伙伴一起交流學習！
本篇內(nèi)容參考資料來自中國航發(fā)西安的田錦娟，徐亞亞，周嘉梁（排名不分先后）發(fā)布的《解決PSM-5試片堵塞及試片維護方法研究》一文。
01 PSM-5五點試塊角色之重
滲透檢測結(jié)果的可靠性在很大程度上依賴于是否采用了合格的的滲透檢測系統(tǒng)，而PSM-5試片是用于檢驗熒光滲透檢測系統(tǒng)性能的有效工具。
但往往因各種因素可能導致PSM-5試片失效，產(chǎn)生了不必要的意外的結(jié)果，本文通過試驗對故障試片進行分析，從而得出有效的解決方法，以便大家用于日常使用PSM-5五點試塊后的維護。
PSM-5型試片是由鍍銘面和中等吹砂面組成的，鍍銘面上由大到小排列5個人工星狀裂紋，裂紋一般淺而細微。
不同靈敏度滲透液所獲得的可見裂紋顯示數(shù)量和尺寸各不相同，當試片上人工裂紋被堵塞時，就不能準確反映整個檢測系統(tǒng)。
例如超高靈敏度的滲透液在進行系統(tǒng)性能試驗時，正常情況下應(yīng)能夠在紫外燈下看到5個人工裂紋顯示，如下圖所示（4級靈敏度）；
由于操作和后期維護不當，試片裂紋堵塞，此時在紫外燈下裂紋顯示數(shù)量將出現(xiàn)少于5個或者有部分裂紋顯示尺寸達不到合格的尺寸范圍，如圖所示(4級靈敏度)：
02 PSM-5五點試塊堵塞原因
在日常工作中，常常出現(xiàn)PSM-5型試片裂紋堵塞現(xiàn)象，針對此現(xiàn)象，本文結(jié)合試驗及筆者們的工作經(jīng)驗認為：
試片本身的人工裂紋缺陷淺而細，在長期使用過程中，如試片清洗不及時或清洗不徹底，從而導致缺陷中的滲透液殘留并干涸，引起試片堵塞。
根據(jù)這一分析，文中進行以下試驗。
03 PSM-5五點試塊模擬堵塞實驗
試驗1：對堵塞試片進行熒光試驗
(1)釆用后乳化4級滲透液RC-77對試片進行滲透15分鐘，滴落15分鐘；
(2)預水洗水壓為200kp漂洗試片，水槍距離試片表面的距離至少為300mm；
(3)浸泡法施加乳化劑ER-83A，乳化時間為90秒；
(4)在烘箱中干燥試片，時間為15分鐘；
(5)在噴粉柜進行爆粉，顯像劑為D-90G，顯像時間為15分鐘。
(6)在距離為38cm處紫外燈下觀察試片。
通過觀察試片，其可見顯示為4個可見裂紋顯示。
利用丙酮擦拭方法對試片未可見顯示進行擦拭后，并施加干粉顯像劑顯像10分鐘，試片上仍為4個可見裂紋顯示。如下圖所示：
試驗1結(jié)論：
釆用正常的系統(tǒng)性能試驗參數(shù)不能得到滿意的結(jié)果，堵塞的人工裂紋無法形成熒光顯示。為了進一步消除裂紋堵塞現(xiàn)象，采用試２處理試片。
試驗2：d型顯像劑處理試片
(1)對試片上的可見顯示不斷進行丙酮擦拭，以便把缺陷中的滲透徹底清洗。
(2)擦拭數(shù)次后再利用d型溶劑懸浮型顯像劑顯像10分鐘，如下圖所示：
在紫外燈下觀察試片上的可見顯示，試片上無任何可見裂紋顯示。
試驗2結(jié)論：
d型顯像劑在常溫下不能將試片裂紋堵塞處的滲透液吸附出來。為了進一步清除試片裂紋堵塞情況，進行試驗3。
試驗3：d型顯像劑加溫處理試片。
(1)d型顯像劑噴涂在試片裂紋處；
(2)將試片放入熱空氣循環(huán)烘干箱中，烘箱溫度為62°C,烘干時間為10分鐘，如下圖所示：
在紫外燈下觀察試片上的可見顯示，此時可以觀察到堵塞裂紋處形成清楚的星狀裂紋顯示。
試驗3結(jié)論：
d型顯像劑加溫處理試片后，可以將缺陷中殘留的滲透液吸附出來。為了進一步確認試片堵塞裂紋已被恢復，本文進一步進行了試驗4來驗證。
試驗4：對試片進行熒光試驗
(1)重復試驗3中的步驟直到試片的堵塞點中的滲透液全部被吸附出來為止；
(2)利用專用超聲波清洗機對試片進行徹底清洗；
(3)利用滲透液RC-77進行熒光滲透試驗；
如下圖所示，試片在紫外燈下觀察到4個可見裂紋顯示。
試驗4結(jié)論：
試片堵塞問題并未徹底解決，試驗3中所觀察到的B點熒光顯示，只是裂紋中的一部分殘留溶液被吸附出裂紋表面，但仍有殘余溶液堵塞裂紋開口，導致本次試驗失敗。為了進一步清除人工裂紋中的殘留物質(zhì)，本文進行試驗5。
試驗5：采用酸對試片裂紋進行腐蝕處理
(1)重復試驗3中的步驟直到試片的堵塞點中的滲透液全部被吸附出來為止；
(2)利用專用超聲波清洗機對試片進行徹底清洗；
(3)在試片的裂紋處滴上2滴濃度為0.05mol/L的稀硫酸5分鐘；
(4)用水清洗試片并烘干2分鐘；
(5)利用超聲波清洗機清洗試片15分鐘；
(6)利用RC-77進行熒光滲透試驗；
如下圖所示，試片在紫光燈下觀察到5個可見裂紋顯示。
試驗5結(jié)論：
試片堵塞問題在試驗3和酸腐蝕的情況下試片恢復原來的狀態(tài)，說明此方法是能解 決試片堵塞情況的。
04 PSM-5試塊的實驗總結(jié)
從以上試驗過程可以看出處理PSM-5試片堵塞的情況，是利用d型顯像劑對試片徹底清洗，在利用中性酸去疏通試片表面開口缺陷，就能很好的解決試片堵塞問題。
05 PSM-5五點試塊日常維護細節(jié)
在日常工作中，在進行熒光檢驗系統(tǒng)性能校驗的試片應(yīng)每次使用后立即清洗凈。
如果不及時清洗或者清洗過度就會導致試片堵塞以及試片破損。所以對試片進行正確使用、清洗和維 護可以延長試片的使用壽命。
(1)每日應(yīng)對使用中的試片使用專用超聲波清洗機對試片進行清洗，丙酮溶液覆蓋試片，至少5分鐘。
(2)應(yīng)每月對使用的試片進行維護，釆用電離水配置20%濃度的Magna-Vuto溶液加熱至60°C對試片進行維護。
(3)將試片保存在50%丙酮與50%酒精的混合液體中。
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